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J-GLOBAL ID：201602225081738269   整理番号：16A1175415

CoFeNi磁性膜の交流軟磁気特性に対する電流パルスリバース印加の効果

Effect of Pulse-Reverse Current on AC Soft Magnetic Properties of Cofeni Film Formed by Pulse-Reverse Electrodeposition

著者 (4件)： 小林竜馬 (芝浦工大 大学院理工学研究科) ,  湯本敦史 (芝浦工大 工) ,  阿相英孝 (工学院大 先進工) ,  鷹野一朗 (工学院大 工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 67  号： 11  ページ： 607-613  発行年： 2016年11月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： CoFeNi軟磁性材料の作成方法の一つに電気めっき法の適用が検討されてきた。しかし,光沢剤としてサッカリンなどを添加するが,これに伴う不純物の混入や結晶粒の粗大化により,磁気特性の劣化が報告されている。一方,パルスリバース電析法では,皮膜の平滑化,および結晶微細化の可能性が報告されている。また,FeNi磁性膜では,交流磁気特性の報告例が少なく透磁率の周波性依存性など不明な点が多い。そこで本研究では,パルスリバース電析法を用いてCoFeNi軟磁性膜を作製し,皮膜の交流軟磁気特性を評価した結果,以下の知見を得た。1)浴のpHを低下させると,変則型共析が促進されCoFeNi膜中のFe含有量が増加し,Ni含有量が低下した。2)浴のpHを低下させると,CoFeNi膜のB_mが増大し,H_cが低下した。3)pH=2.0,Iav=16mAcm^-2の条件で電析した結果,Co₅₇Ni₁₄Fe₂₉の膜組成でB_m=1.97,H_c=244Am^-1の皮膜が得られた。

シソーラス用語： *電着 ,  *電気めっき ,  パルス波 ,  めっき皮膜 ,  結晶粒径 ,  平滑化 ,  保磁力 ,  磁束密度 ,  軟磁性材料 ,  磁気ヒステリシス ,  磁性薄膜 ,  めっき条件 ,  電流密度 ,  pH【水素イオン指数】 ,  *磁気的性質 ,  結晶粒微細化
準シソーラス用語： パルスめっき ,  磁性膜 ,  電析 ,  *軟磁気特性

分類 (2件)： 磁気的性質  (WB02020J) ,  電気めっき  (WC08023B)

引用文献 (20件)：

• 1)K. Suzuki, K. Komaki, S. Tanoue ; J. Magn. Soc. Jpn., 23, 1401(1999).
• 2)A. Nakamura, M. Takai, K. Hayashi, T. Osaka ; Hyomen Gijutsu, 47, 934(1996).
• 3)T. Osaka, T. Sawaguchi, F. Mizutani, T. Yokoshima, M. Takai, Y. Okinaka ; J. Electrochem. Soc., 146, 3295(1999).
• 4)Jian-mei. Li, Z. Zhang, Jin-feng. Li, M. Xue. Y. Liu ; Trans. Nonferrous Met. Soc. China, 23, 674(2013).
• 5)N.V. Mandich ; Metal Finishing, 98, 375(2000).

タイトルに関連する用語 (6件)： 磁性膜 ,  交流 ,  軟磁気特性 ,  電流パルス ,  リバース ,  印加