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J-GLOBAL ID:201602227608411441   整理番号:16A1279552

シリコン表面における微小スケールの水滴凝縮の可視化計測及び解析

著者 (7件):
資料名:
巻: 2016  ページ: ROMBUNNO.J0540502  発行年: 2016年09月10日 
JST資料番号: X0587C  ISSN: 2424-2667  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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微小水滴の凝縮機構に関する知見を得るため,シリコン表面における直径数100nm-数μmの水滴の凝縮を環境制御型走査電子顕微鏡で観察した。成長過程において,ベース直径一定のまま接触角が増加するモードと,接触角一定のままベース直径が増加するモードが確認された。過冷却度が一定という前提のもと成り立つ凝縮速度モデルと本研究の凝縮速度は一致せず,過冷却度の不均一が生じていると考えられる。微小水滴の接触角がマクロ接触角より小さい傾向が確認された。原因として,サブミクロンスケール水滴の合体またはElectrowettingの影響が考えられる。(著者抄録)
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固-気界面一般  ,  蒸留,蒸発 

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