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J-GLOBAL ID:201602236964635008   整理番号:16A1190777

シリコン表面における微小水滴の凝縮機構の解析

著者 (7件):
資料名:
巻: 53rd  ページ: ROMBUNNO.D113  発行年: 2016年 
JST資料番号: F0872D  ISSN: 1346-1532  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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シリコン表面で発生する10μmからサブミクロンスケールの水滴の凝縮を,環境制御型走査電子顕微鏡を用いて水蒸気雰囲気下で観察した。連続画像から水滴の接触角,ベース直径,体積を計測することで,微小水滴の凝縮機構を評価した。ベース直径が一定で接触角が増加するモードと,接触角が一定でベース直径が増加するモードの2種類の成長モードがあることが確認された。また,それぞれのモードにおける水滴の成長速度を,過冷却温度をパラメータとする成長モデルを用いて解析した。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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相変化を伴う熱伝達  ,  固体デバイス材料 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
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