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J-GLOBAL ID：201602243771042907   整理番号：16A1234750

直流電着によって調製したナノ双晶CUの微細構造に及ぼす添加剤濃度の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

EFFECT OF ELECTROLYTE ADDITIVE CONCENTRATION ON MICROSTRUCTURE OF DIRECT-CURRENT ELECTRODEPOSITED NANOTWINNED Cu

著者 (4件)： Jin Shuai (Shenyang National Laboratory for Materials Science, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences) ,  Cheng Zhao (Shenyang National Laboratory for Materials Science, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences) ,  Pan Qingsong (Shenyang National Laboratory for Materials Science, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences) ,  Lu Lei (Shenyang National Laboratory for Materials Science, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences)
資料名： Jinshu Xuebao  (Jinshu Xuebao)
巻： 52  号： 8  ページ： 973-979  発行年： 2016年 
JST資料番号： B0626A  ISSN： 0412-1961  CODEN： CHSPA4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高密度優先配向を有するナノ双晶構造のバルクCUサンプルを,直流電解析出技術によって調製した。微細構造に及ぼす添加剤濃度の影響を,XRD,SEMおよびTEMによって研究した。その結果,試料は堆積方向に沿って成長したミクロンサイズの結晶粒からなり,結晶粒内に高密度の結晶粒があり,ほとんどの結晶粒が成長表面に平行していることがわかった。添加剤(ゼラチン)の濃度は双晶CUの双晶ラメラの厚さに明らかな影響を与えるが、結晶粒度に対する影響は大きくない。添加剤の添加により,純粋なCU試料中にはメータの双晶ラメラが存在し,添加剤濃度が0.5MG/Lから5MG/Lに増加すると,双晶ラメラの厚さは150NMから30NMに減少し,境界の成長はより完全になった。その理由は、添加剤濃度の増加に伴い、陰極過電位が増大し、境界の核形成率が増加し、それによって双晶ラメラの厚さが減少することである。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶粒 ,  *電着 ,  過電圧 ,  優先配向 ,  ゼラチン ,  核形成 ,  *双晶 ,  *微細構造 ,  X線回折 ,  *直流 ,  結晶粒度 ,  *添加剤
準シソーラス用語： 高密度 ,  *ナノ双晶 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： nanotwinned Cu ,  direct-current electrodeposition ,  twin spacing ,  electrolyte additive

分類 (2件)： 機械的性質  (WB02030U) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N)

タイトルに関連する用語 (8件)： 直流 ,  電着 ,  調製 ,  ナノ双晶 ,  Cu ,  微細構造 ,  添加剤 ,  研究