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J-GLOBAL ID：201602249011127687   整理番号：16A1273691

イオン液体の二成分混合物における表面偏析: 高分解RBS測定と分子動力学シミュレーションの比較

Surface segregation in a binary mixture of ionic liquids: Comparison between high-resolution RBS measurements and moleculardynamics simulations

著者 (5件)： Nakajima Kaoru (Department of Micro Engineering, Kyoto University, Kyoto-daigaku-katsura, Nishikyo, Kyoto 615-8540, Japan) ,  Nakanishi Shunto (Department of Micro Engineering, Kyoto University, Kyoto-daigaku-katsura, Nishikyo, Kyoto 615-8540, Japan) ,  Chval Zdenek (Faculty of Health and Social Studies, University of South Bohemia, Ceske Budejovice, Czech Republic) ,  Lisal Martin (Laboratory of Aerosols Chemistry and Physics, Institute of Chemical Process Fundamentals of the CAS, v. v. i., 165 02 Prague 6-Suchdol, Czech Republic) ,  Kimura Kenji (Department of Micro Engineering, Kyoto University, Kyoto-daigaku-katsura, Nishikyo, Kyoto 615-8540, Japan)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 145  号： 18  ページ： 184704-184704-6  発行年： 2016年11月14日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1-エチル-3-メチルイミダゾリウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド([C₂C₁Im][Tf₂N])および1-エチル-3-メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート([C₂C₁Im][BF₄])の等モル混合物の表面構造を,高分解Rutherford後方散乱分光法(HRBS)および分子動力学(MD)シミュレーションを用いて調べた。HRBSおよびMDシミュレーションの両方が,第一分子層中での[Tf₂N]の濃縮を示すが,HRBSで観測される濃縮の程度はMDシミュレーションで予測されるものより顕著である。サブ表面領域では,MDシミュレーションは[Tf₂N]の小さな枯渇を示すが,HRBSはそこでは小さな濃縮を示す。この不一致はMDシミュレーションのアーチファクトに部分的に起因される。有限サイズボックス中で各イオンの数は固定されているので,特定のイオンの表面濃縮はサブ表面領域でのアーチファクト枯渇の結果をもたらす。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *イオン液体 ,  *混合物 ,  *表面偏析 ,  Rutherford後方散乱 ,  計算機シミュレーション ,  表面構造
準シソーラス用語： *二成分混合物 ,  Rutherford後方散乱分光測定 ,  分子動力学シミュレーション

分類 (1件)： 界面化学一般  (CB12010J)

物質索引 (2件)： 1-エチル-3-メチルイミダゾリウム・ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミンアニオン ,  1-エチル-3-メチルイミダゾリウム・テトラフルオロボラート

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン液体 ,  二成分混合物 ,  表面偏析 ,  高分解 ,  分子動力学シミュレーション