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J-GLOBAL ID：201602250798742638   整理番号：16A1350359

イオンビームの非走査式大面積均一照射技術の開発

著者 (1件)： 百合庸介 (量子科学技術研究開発機構 高崎量子応用研)
資料名： 放射線と産業  (Radiation & Industries)
号： 141  ページ： 47-50  発行年： 2016年12月01日 
JST資料番号： G0314A  ISSN： 0286-8873  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： TIARAのサイクロトロンでは,従来の走査方式と異なる大面積均一ビーム形成・照射技術を開発した。この技術は,多極電磁石が及ぼす非線形集束力をビームに作用することにより,ビームの進行方向に垂直な断面におけるイオンの数密度に変換する原理に基づき,Gauss型強度分布の裾を折りたたむことにより,ビームの中心付近の強度分布を均一化することができる。これにより,従来の走査方式では困難又は非効率であった大面積照射野全体の同時照射,短時間の照射,超低フルエンスでの照射等の特徴的な均一照射が可能となる。数100MeV級の重イオンについて,均一度10%以内で10cm×10cm程度の大面積の形成を目標として,多極電磁石を備えたビームラインの光学設計,前提となるGaussビームの形成,大面積ビームの強度分布計測手法等の要素技術の開発を進めた。多極電磁石の非線形集束力を利用して,サイクロトロンのイオンビームで初めて強度分布の大面積均一化を達成した。これまでに,陽子,ヘリウム,炭素,アルゴン,キセノン等のイオンを100cm2を超える大面積均一ビームを10%以下の均一度で形成した。

シソーラス用語： *サイクロトロン ,  アルゴンビーム ,  *イオンビーム ,  炭素ビーム ,  キセノン ,  陽子ビーム ,  強度 ,  *イオン照射 ,  多重極 ,  電磁石 ,  ヘリウムビーム ,  ビーム強度
準シソーラス用語： 八極電磁石

分類 (2件)： 加速器一般及び理論  (BE02010M) ,  電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F)

引用文献 (12件)：

• P.F.Meads,Jr.,IEEE Trans.Nucl.Sci. 30 (1983) 2838.
• Y.Yuri,T.Yuyama,T.Ishizaka,K,Yoshida,I.Ishibori,and S.Okumura,Proceedings of the 6th International Particle Accelerator Conference (2015) p.236.
• Y.Yuri,N.Miyawaki,T.Kamiya,W.Yokota,K.Arakawa,and M.Fukuda, ”Uniformization of the transverse beam profile by means of nonlinear focusing method”,Phys.Rev.ST Accel.Beams 10 (2007)104001.
• http://www.srim.org/
• T.Yuyama,Y.Yuri,T.Ishizaka,I.Ishibori,and S.Okumura, Proceedings of the 1st International Beam Instrumentation Conference (2012) p.246.

タイトルに関連する用語 (4件)： イオンビーム ,  走査式 ,  大面積 ,  開発