垂直エピタキシャル・ヘテロ構造アーキテクチャーの極めて高い効率

FAFARD S.; YORK M. C. A.; PROULX F.; VALDIVIA C. E.; WILKINS M. M.; ARES R.; AIMEZ V.; HINZER K.; MASSON D. P.

文献

J-GLOBAL ID：201602254115364519 整理番号：16A0387787

垂直エピタキシャル・ヘテロ構造アーキテクチャーの極めて高い効率

Ultrahigh efficiencies in vertical epitaxial heterostructure architectures

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資料名：

Applied Physics Letters (Applied Physics Letters)

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巻： 108 号： 7 ページ： 071101-071101-4 発行年： 2016年02月15日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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