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J-GLOBAL ID：201602255946956206   整理番号：16A0450891

アノード酸化チタンの皮膜厚分布に対するUV光照射の影響

著者 (5件)： 金澤友美 (北大 大学院) ,  北川裕一 (北大 大学院) ,  中西貴之 (北大 大学院) ,  長谷川靖哉 (北大 大学院) ,  伏見公志 (北大 大学院)
資料名： 電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM)
巻： 83rd  ページ： ROMBUNNO.1D12  発行年： 2016年03月23日 
JST資料番号： Y0048B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 酸化チタン ,  *紫外線照射 ,  *光電気化学反応 ,  陽分極 ,  *セラミック被覆 ,  耐食性 ,  *不均一性 ,  多結晶 ,  *分布 ,  光学定数 ,  明度 ,  誘導 ,  結晶化 ,  光誘起 ,  *膜厚分布 ,  *酸化チタンコーティング
準シソーラス用語： *酸化チタン被覆 ,  多結晶体

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： アノード酸化 ,  チタン ,  膜厚分布 ,  UV光