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J-GLOBAL ID：201602258572257047   整理番号：16A1381692

実験結果と比較した量子化学計算に基づくALD-SiNプロセスの反応機構

Reaction Mechanism of ALD-SiN Process Based on Quantum Chemical Calculation Comparing to Experimental Results

著者 (4件)： MURATA H. (TAIYO NIPPON SANSO Corp., Ibaraki, JPN) ,  TAKA H. (TAIYO NIPPON SANSO Corp., Ibaraki, JPN) ,  TAJIMA N. (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  SUZUKI K. (TAIYO NIPPON SANSO Corp., Ibaraki, JPN)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 38th  ページ： 41-42  発行年： 2016年 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 実験 ,  *計算 ,  量子化学 ,  *窒化ケイ素 ,  *化学蒸着 ,  単原子層 ,  *反応機構 ,  ケイ素化合物 ,  塩化ケイ素 ,  活性化エネルギー ,  収着 ,  アンモニア ,  赤外吸収スペクトル ,  温度依存性
準シソーラス用語： *量子化学計算 ,  *ALD【蒸着】 ,  ジクロロシラン ,  ヘキサクロロジシラン ,  化学収着 ,  FTIRスペクトル

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 実験結果 ,  量子化学計算 ,  プロセス