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J-GLOBAL ID:201602259054348302   整理番号:16A1133611

フェノールの一段合成用の,低い酸素圧下でのCu/Ti/HZSM-5上のベンゼンの選択的触媒酸化

Selective catalytic oxidation of benzene over Cu/Ti/HZSM-5 under low oxygen pressure for one step synthesis of phenol
著者 (6件):
資料名:
巻: 411  ページ: 372-376  発行年: 2016年01月 
JST資料番号: B0605C  ISSN: 1381-1169  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Cuを含有させたゼオライト触媒(Cu/HZSM-5)上でのベンゼンの直接ヒドロキシル化によるフェノール合成を空気流通下に行った。フェノールを主生成物として得て,収率は2.5%であるが,フェノールの選択率は低い(44.0%)。これはヒドロキノン,p-ベンゾキノン,CO,およびCO2などの副生成物の生成によるものである。Cu/HZSM-5を使用すると,O2分圧が通常分圧よりも低い条件下に,フェノールの選択率はかなり高い(94.0%)。気相の過剰のO2は副生成物の生成を引き起こし,一方,O2分圧の減少は副生成物の生成を回避できる。さらに,Cu/HZSM-5にTiを添加すると,フェノール生成活性を改善した。低いO2分圧のもとでCu/Ti/HZSM-5上で,フェノールの好収率(4.3%)および選択率(88.0%)が達成できた。Tiの添加は活性部位としてCu+の生成を促進する。したがって,低いO2分圧のもとでCu/Ti/HZSM-5上で,フェノールが選択的に生成できる。これはTiの添加によってCu+部位の増大および低いO2分圧による副生成物の生成を回避できるからである。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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その他の触媒  ,  酸化,還元 
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