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J-GLOBAL ID:201602262926295839   整理番号:16A1383260

0.13μm SiGe BiCMOS技術によるDバンドRF-MEMS SPDTスイッチ【Powered by NICT】

D-Band RF-MEMS SPDT Switch in a $0.13¥mu$ m SiGe BiCMOS Technology
著者 (6件):
資料名:
巻: 26  号: 12  ページ: 1002-1004  発行年: 2016年 
JST資料番号: W0099A  ISSN: 1531-1309  CODEN: IMWCBJ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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は0.13~μm SiGe BiCMOS技術で製作したDバンド(110-170 GHz)RF-MEMSに基づく単一極二重スロー(SPDT)スイッチを提案した。RF MEMSベースSPDTスイッチのオンウエハSパラメータ測定を140GHzで技術RF性能,1.42dBの挿入損失と54.5dBのアイソレーションの状態を越えて示した。SPDTスイッチは二単極単投(SPST)RF MEMSスイッチに接続されたティー接合から構成されている。RF MEMSスイッチは60V駆動電圧を用いて駆動され, とスイッチ10 μs以下スイッチを提供する沖倍であった。著者らの知識の及ぶ限りでは,本研究で得られた結果は,最も低い挿入損とD-バンドで報告されたSPDT(単極双投)の最高の分離した。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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継電器・スイッチ 

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