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J-GLOBAL ID：201602268291895067   整理番号：16A1053642

ナノ秒レーザー干渉光を用いた周期構造ZnOマイクロドットの作製

著者 (6件)： 中村大輔 (九大 大学院システム情報科学研究院) ,  高尾修平 (九大 大学院システム情報科学研究院) ,  東畠三洋 (九大 大学院システム情報科学研究院) ,  中田芳樹 (大阪大 レーザーエネルギー学研究セ) ,  池上浩 (九大 大学院システム情報科学研究院) ,  岡田龍雄 (九大 大学院システム情報科学研究院)
資料名： レーザー学会研究会報告  (Reports on Topical Meeting of the Laser Society of Japan)
巻： 495th  ページ： 21-25  発行年： 2016年 
JST資料番号： L3352A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： パルスレーザ ,  ナノ秒 ,  *光干渉 ,  レーザビーム ,  マイクロマシニング ,  パターン形成 ,  *酸化亜鉛 ,  *パルスレーザ照射 ,  *周期構造 ,  *半導体薄膜 ,  *量子ドット ,  *レーザ干渉
準シソーラス用語： *ナノ秒レーザ

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (7件)： ナノ秒レーザー ,  干渉光 ,  周期構造 ,  ZnO ,  マイクロ ,  ドット ,  作製