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J-GLOBAL ID：201602268754310110   整理番号：16A0387589

ピンホールマスクを用いた高分解能形状修正成膜法の開発 第2報-数値制御システムによる任意形状創生-

著者 (3件)： 長山光 (東大 大学院工学系研究科) ,  本山央人 (東大 大学院工学系研究科) ,  三村秀和 (東大 大学院工学系研究科)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2016  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.Q37  発行年： 2016年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 自由曲面X線ミラーにより,任意の強度分布を持つX線ビームを実現できる。ミラー形状の自由度を向上させるには,平滑な表面を維持しながら,高分解能で形状を制御する必要がある。そこで,ピンホールマスクにより100μmの横分解能を有するイオンビームスパッタ成膜装置を構築した。実際に本装置により,100μmレベルの高分解能,数ナノメートルの高さ精度で任意形状を作製できることを実証した。(著者抄録)

シソーラス用語： *ピンホール ,  高分解能 ,  修正 ,  構成 ,  数値制御 ,  NC装置 ,  形態 ,  ビーム ,  曲面 ,  *反射鏡 ,  分解能 ,  *スパッタリング装置 ,  単位 ,  精度 ,  *マスク ,  X線反射 ,  イオンビームスパッタリング
準シソーラス用語： X線ビーム ,  *X線ミラー ,  ナノメータ ,  形状修正 ,  自由曲面 ,  数値制御装置 ,  *成膜

分類 (2件)： X線技術  (BA02060D) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高分解能 ,  形状修正 ,  成膜 ,  開発 ,  数値制御システム