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J-GLOBAL ID：201602269915254996   整理番号：16A0584175

亀裂のある高温超伝導薄膜における高速遮蔽電流解析【Powered by NICT】

High-Speed Shielding Current Analysis in High-Temperature Superconducting Film With Cracks

著者 (3件)： Kamitani Atsushi (Grad. Sch. of Sci. & Eng., Yamagata Univ., Yonezawa, Japan) ,  Takayama Teruou (Fac. of Eng., Yamagata Univ., Yonezawa, Japan) ,  Saitoh Ayumu (Grad. Sch. of Sci. & Eng., Yamagata Univ., Yonezawa, Japan)
資料名： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Transactions on Magnetics)
巻： 52  号： 3  ページ： ROMBUNNO.7202404.1-4  発行年： 2016年 
JST資料番号： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二種類の数値解法を含む亀裂:微分代数方程式(DAE)法と仮想電圧法高温超伝導(HTS)薄膜中の遮蔽電流密度を計算するために提案した。数値コードは,両方法に基づいて開発し,コードを用いて,両方法の性能を数値的に調べた。の計算結果は,GMRESは線形システムソルバとして実装した場合,仮想電圧法であるDAE法よりもはるかに高速であることを示した。添加では,仮想電圧法の高速化へのH行列法の適用性を数値的に評価した。,「i I行列法による加速した高アスペクト比のHTS膜における大型遮蔽電流解析に特に有効であることが分かった。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 高速化 ,  *高温 ,  数値解法 ,  線形系 ,  *超伝導薄膜 ,  適応性 ,  *高速度 ,  マトリックス法 ,  電圧 ,  *亀裂 ,  高アスペクト比 ,  H行列 ,  ソルバ
準シソーラス用語： 微分代数方程式 ,  *遮蔽電流 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 表面き裂 ,  微分代数方程式 ,  高温超伝導体 ,  Newton法

分類 (3件)： 非破壊試験  (HB02030F) ,  超伝導材料  (BM04041W) ,  静電気学,静磁気学  (BD01010C)

タイトルに関連する用語 (4件)： 亀裂 ,  超伝導薄膜 ,  遮蔽電流 ,  解析