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J-GLOBAL ID:201602270561566201   整理番号:13A1108361

Influence of different oxidants on the band alignment of HfO_2 films deposited by atomic layer deposition

著者 (6件):
資料名:
巻: 21  号:ページ: 087702-1-087702-5  発行年: 2012年 
JST資料番号: W1539A  ISSN: 1674-1056  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)

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