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J-GLOBAL ID：201602280505070018   整理番号：16A1350102

硬磁性膜作製技術の最前線 I 薄膜プロセスによるNd₂Fe₁₄Bの界面修飾と磁気特性

Interface Modification and Magnetic Properties of Nd₂Fe₁₄B Prepared by Thin Film Process

著者 (3件)： 小池邦博 (山形大 大学院理工学研究科) ,  小川大介 (山形大 大学院理工学研究科) ,  加藤宏朗 (山形大 大学院理工学研究科)
資料名： まぐね  (Magnetics Japan)
巻： 11  号： 6  ページ： 333-343  発行年： 2016年12月01日 
JST資料番号： L5842A  ISSN： 1880-7208  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Nd₂Fe₁₄B系磁石の微細組織と保磁力について,薄膜プロセスを用いることにより,より単純な形での検討を行った。高真空にて柱状晶をもつ1.2ミクロン程度のNdFeB膜を作製,また極高真空下にて,70nから20nmまでの3種の膜を作製した。その結果,粒子の微細化と界面修飾効果は,硬質磁性材料であるNdFeB薄膜の保磁力に対して各々独立の寄与を持つことがわかった。

シソーラス用語： *永久磁石 ,  磁性薄膜 ,  粒子 ,  *界面 ,  *保磁力 ,  ネオジム含有合金 ,  ホウ素含有合金 ,  鉄合金 ,  磁性粒子 ,  ネオジム-鉄-ホウ素合金
準シソーラス用語： ネオジム永久磁石 ,  ネオジム-ホウ素-鉄

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  電磁石  (NA05080G)

引用文献 (56件)：

• M. Sagawa, S. Fujimura, N. Togawa, H. Yamamoto, and Y. Matsuura: J. Appl. Phys., 55, 2083 (1984).
• S. Konda: Magnetics Jpn., 8, 300 (2013).
• S. Sugimoto: J. Phys. D Appl. Phys., 44, 0604001 (2011).
• O. Gutfleisch, M. Willard, E. Brück, C. Chen, S. Sankar, and J. Liu: Adv. Mater., 44, 821 (2011).
• S. Hirosawa: J. Magn. Soc. Jpn., 39, 85.(2015)

タイトルに関連する用語 (6件)： 硬磁性 ,  作製 ,  薄膜プロセス ,  界面 ,  修飾 ,  磁気特性