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J-GLOBAL ID：201602289932515249   整理番号：16A0628535

超紫外線/オゾン処理したポリ(ジメチルシロキサン)の溶液浸漬による粒子離散配列の自発的形成

Spontaneous formation of discrete arrangement of particles by dipping ultraviolet/ozone-treated poly(dimethylsiloxane) substrate in solution

著者 (2件)： Watanabe Masashi (Faculty of Textile Science and Tihnology, Shinshu University, 3-15-1 Tokida, Ueda, Nagano, 386-8567, Japan) ,  Nishino Toshihiro (Faculty of Textile Science and Tihnology, Shinshu University, 3-15-1 Tokida, Ueda, Nagano, 386-8567, Japan)
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 133  号： 23  ページ： ROMBUNNO.43506  発行年： 2016年06月15日 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 機能材料を安価に生成できる規則正しい微細構造の自発的形成が注目されている。本報で,紫外線/オゾン処理ポリ(ジメチルシロキサン)基質を用いた配列粒子の自発形成のための新方法を報告した。溶媒蒸気で満たされた閉じた容器中で基板をまず溶液(溶媒:メタノール-水混合物,溶質:スクロースまたは過塩素酸リチウム)に浸漬し,つぎに空気乾燥して溶質を粒子として沈殿させた。方法の簡便さにもかかわらず,粒子は隣接粒子間距離約48μmで三角形格子点に離散して規則正しく配列した。基質表面の溶液による膨潤に基づく規則正しいディンプル形成と溶液の液膜脱離(脱ぬれ)による微細沈殿配列の機構を考察した。Copyright 2016 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリジメチルシロキサン ,  基板 ,  *溶媒 ,  *浸漬 ,  膨潤 ,  *液滴 ,  オゾン処理 ,  *充填 ,  過塩素酸リチウム ,  *少糖類 ,  *極性溶媒 ,  二糖類 ,  ピラノシド ,  フラノシド ,  グルコシド ,  フルクトオリゴ糖
準シソーラス用語： プラスチック基板 ,  *液滴粒子 ,  最密充填 ,  脱濡れ

著者キーワード (4件)： elastomers ,  self-assembly ,  surfaces and interfaces ,  swelling

分類 (2件)： 無機重合体  (YH07140R) ,  有機化合物の結晶成長  (BK13070E)

物質索引 (1件)： スクロース

タイトルに関連する用語 (4件)： 超紫外線 ,  オゾン処理 ,  溶液 ,  浸漬