特許
J-GLOBAL ID：201603000210180126
ラミネート加工装置及び該ラミネート加工装置の使用方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
浜野 孝雄
, 八木田 智
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-546100
公開番号（公開出願番号）：特表2016-501752
出願日： 2013年12月04日
公開日（公表日）： 2016年01月21日
要約：
フィルム(41)及び/又は基板(42)に熱溶融接着剤の膜を設けることによって、 フィルム(41)を基板(42)上に貼り付けるためのラミネート加工装置において、ラミネート加工装置が、ベース(3)及びベース(3)に対して垂直に移動可能なプレート(8)を備え、プレート(8)がベース(3)と共に、基板(42)が基板にラミネート加工されるべきフィルム(41)と共に導入され得る空間(9)を形成し、プレート(8)を上昇させ、かつ、プレート(8)とベース(3)との間の空間にあるラミネート加工されるべきフィルム(41)を備えた基板(42)の上にプレート(8)が載ることができる静止位置まで下降させる手段を有し、プレート(8)及び/又はベース(3)を、熱溶融接着剤の溶融温度より高い温度まで加熱する加熱要素(25)を備え、かつ、 ラミネート加工されるべきフィルム(41)と共に基板(42)を、ベース(3)及びプレート(8)の間の空間(9)へ導入し、かつ、そこから排出するための入口及び出口(34)を備えていることを特徴とするラミネート加工装置。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
フィルム(41)及び/又は基板(42)に熱溶融接着剤の膜を設けることによって、 フィルム(41)を基板(42)上に貼り付けるためのラミネート加工装置において、
ラミネート加工装置が、
ベース(3)及びベース(3)に対して垂直に移動可能なプレート(8)を備え、プレート(8)がベース(3)と共に、基板(42)が基板にラミネート加工されるべきフィルム(41)と共に導入され得る空間(9)を形成し、
プレート(8)を上昇させ、かつ、プレート(8)とベース(3)との間の空間にあるラミネート加工されるべきフィルム(41)を備えた基板(42)の上にプレート(8)が載ることができる静止位置まで下降させる手段を有し、
プレート(8)及び/又はベース(3)を、熱溶融接着剤の溶融温度より高い温度まで加熱する加熱要素(25)を備え、かつ、
ラミネート加工されるべきフィルム(41)と共に基板(42)を、ベース(3)及びプレート(8)の間の空間(9)へ導入し、かつ、そこから排出するための入口及び出口(34)を備えている
ことを特徴とするラミネート加工装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4F211AD06
, 4F211AR07
, 4F211TA04
, 4F211TJ15
, 4F211TN07
, 4F211TQ03
