特許
J-GLOBAL ID：201603000241710972
テレフタル酸からの1,4-シクロヘキサンジメタノールの統合調製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 出野 知
, 永坂 友康
, 小林 良博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-522922
特許番号：特許第5973566号
出願日： 2012年07月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (i)過圧で約200°C〜約300°Cの温度で反応ゾーンにて、少なくとも2:1のアルコール/酸のモル比でテレフタル酸及び(4-メチルシクロヘキシル)メタノールを接触させ、その間に反応ゾーンから水を除去し、ビス(4-メチルシクロヘキシル)メチル)テレフタレート及び未反応(4-メチルシクロヘキシル)メタノールを含むエステル化生成物混合物を形成すること、
(ii)芳香環の水素化に有効な触媒の存在下に第一の水素化ゾーンにおいて、前記エステル化生成物混合物を水素と接触させ、ビス(4-メチルシクロヘキシル)メチル)シクロヘキサン-1,4-ジカルボキシレートを含む液体エフルエントを製造すること、
(iii)第二の水素化ゾーンにおいてエステル水素化触媒の存在下に、前記第一の水素化ゾーンからの前記エフルエントを水素と接触させ、1,4-シクロヘキサンジメタノール、4,4'-オキシビス(メチレン)ビス(メチルシクロヘキサン)及び(4-メチルシクロヘキシル)メタノールを含む水素化生成物を製造すること、
(iv)工程(iii)からの水素化生成物を蒸留して、水素化生成物中の主要部分の(4-メチルシクロヘキシル)メタノールを含む留出物、及び、水素化生成物中の主要部分の1,4-シクロヘキサンジメタノール及び4,4'-オキシビス(メチレン)ビス(メチルシクロヘキサン)を含む蒸留ボトムを回収すること、
(v)前記蒸留ボトム中の主要部分の1,4-シクロヘキサンジメタノールを含む下層、及び、前記蒸留ボトム中の主要部分の4,4’-オキシビス(メチレン)ビス(メチルシクロヘキサン)を含む上層を、前記蒸留ボトムに形成させること、
(vi)工程(v)の上層及び下層を分離し、蒸留により該下層から1,4-シクロヘキサンジメタノールを回収すること、及び、
(vii)(4-メチルシクロヘキシル)メタノールの少なくとも一部を工程(i)にリサイクルすること、
を含む、テレフタル酸からの1,4-シクロヘキサンジメタノールの調製方法。
IPC (4件)：
C07C 29/149 ( 200 6.01)
, C07C 29/80 ( 200 6.01)
, C07C 31/27 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07C 29/149
, C07C 29/80
, C07C 31/27
, C07B 61/00 300
