特許
J-GLOBAL ID：201603000242882203
シクロデキストリン誘導体及びその製造方法、並びにシクロデキストリン誘導体の重合体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (10件)：
大森 純一
, 高橋 満
, 折居 章
, 関根 正好
, 中村 哲平
, 金子 彩子
, 吉田 望
, 金山 慎太郎
, 千葉 絢子
, 白鹿 智久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-191020
公開番号（公開出願番号）：特開2016-069652
出願日： 2015年09月29日
公開日（公表日）： 2016年05月09日
要約：
【課題】フェノール化合物を良好に除去可能な、シクロデキストリン誘導体の提供。【解決手段】下記式で表される化合物のアミノ基を2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、又は2-メタクリロイルオキシエチルフタル酸等によりアミド化した、化学工場、又は石油精製工場等で発生する、フェノール類等の環境汚染物質を効率よく吸着することができる、シクロデキストリン誘導体。(xは1〜3の整数;kは6〜8の整数)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(1)で表されるシクロデキストリン誘導体。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
4C090BA10
, 4C090BB52
, 4C090BD36
, 4C090CA35
, 4C090CA38
, 4C090DA05
, 4C090DA31
