特許
J-GLOBAL ID:201603000569106193
排ガス浄化触媒及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (5件):
青木 篤
, 鶴田 準一
, 古賀 哲次
, 関根 宣夫
, 河野上 正晴
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-242614
公開番号(公開出願番号):特開2016-101570
出願日: 2014年11月28日
公開日(公表日): 2016年06月02日
要約:
【課題】本発明によれば、低温活性、高選択性、及び/又は高被毒耐性と、高耐久性とを備えた排ガス浄化触媒及びその製造方法を提供することができる。【解決手段】本発明の排ガス浄化触媒は、シリコン及びシリコンの表面に担持された白金クラスターを有する。さらに、本発明の排ガス浄化触媒では、シリコンの表面の白金クラスターが担持されていない部分に一原子層の酸化被膜が形成され、白金クラスターに含有されている白金原子の個数が20個〜1000個である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
シリコン及び前記シリコンの表面に担持された白金クラスターを有する排ガス浄化触媒であって、
前記シリコンの表面のうちの前記白金クラスターが担持されていない部分に一原子層の酸化被膜が形成され、
前記白金クラスターに含有されている白金原子の個数が、20個〜1000個である、
排ガス浄化触媒。
IPC (6件):
B01J 23/42
, B01J 37/34
, B01J 37/02
, B01J 37/14
, B01D 53/94
, F01N 3/10
FI (6件):
B01J23/42 A
, B01J37/34
, B01J37/02 301P
, B01J37/14
, B01D53/36 104A
, F01N3/10 A
Fターム (30件):
3G091BA11
, 3G091BA39
, 3G091FC07
, 3G091GB06W
, 3G091GB17X
, 4D048AA06
, 4D048AA13
, 4D048AA18
, 4D048AB05
, 4D048AC06
, 4D048BA06X
, 4D048BA30X
, 4D048BA41X
, 4G169AA03
, 4G169BA02A
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169BD05A
, 4G169BD05B
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CA09
, 4G169DA05
, 4G169EC28
, 4G169EE06
, 4G169FA02
, 4G169FB02
, 4G169FB40
, 4G169FB58
, 4G169FC08
引用特許:
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