表示装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-107123
公開番号（公開出願番号）：特開2016-184173
出願日： 2016年05月30日
公開日（公表日）： 2016年10月20日
要約：

【課題】画素電極上に金属膜を形成して積層構造とする際に、1つのレジストマスクを用いて、画素電極及び金属膜を形成することを課題とする。【解決手段】画素電極となる導電膜と金属膜を積層させる。金属膜上に半透部を有する露光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジストパターンを形成する。レジストパターンを用いて画素電極と、画素電極上の一部に接する金属膜を形成する。以上により、1つのレジストマスクを用いて、画素電極及び金属膜を形成することが可能となる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

トランジスタと、前記トランジスタの上方に設けられた有機樹脂膜と、前記有機樹脂膜の上方に設けられ、前記トランジスタと電気的に接続された透明導電膜と、前記透明導電膜の上方に設けられた金属膜と、を有し、前記透明導電膜は、前記金属膜と接する領域を有し、前記透明導電膜の側面は、基板に対して傾斜しており、前記金属膜の側面は、前記基板に対して傾斜していることを特徴とする表示装置。

IPC (4件)：

G09F 9/30 , G02F 1/136 , H01L 51/50 , H05B 33/26

FI (5件)：

G09F9/30 338 , G09F9/30 337 , G02F1/1368 , H05B33/14 A , H05B33/26 Z

Fターム (43件)：

2H192AA24 , 2H192BA25 , 2H192BA42 , 2H192BC34 , 2H192BC35 , 2H192CB02 , 2H192CB05 , 2H192CB71 , 2H192CC72 , 2H192DA12 , 2H192EA04 , 2H192EA17 , 2H192EA22 , 2H192EA43 , 2H192GA41 , 2H192GD14 , 2H192HA44 , 2H192HA63 , 2H192HA64 , 2H192JA13 , 3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC21 , 3K107CC45 , 3K107DD22 , 3K107DD27 , 3K107DD39 , 3K107EE03 , 5C094AA43 , 5C094AA44 , 5C094BA03 , 5C094BA27 , 5C094BA43 , 5C094DA13 , 5C094EA04 , 5C094EA07 , 5C094FA03 , 5C094FB02 , 5C094FB12 , 5C094GB10 , 5C094HA05 , 5C094HA06 , 5C094HA08

引用特許：

出願人引用 (5件)

液晶表示装置及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-085399 出願人：シャープ株式会社
電気光学装置およびその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-361905 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所, シャープ株式会社
液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-229807 出願人：株式会社東芝

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審査官引用 (5件)

液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-055830 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
液晶表示装置及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-085399 出願人：シャープ株式会社
電気光学装置およびその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-361905 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所, シャープ株式会社

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