特許
J-GLOBAL ID:201603001093019862

投射光学系および画像投射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 真田 修治
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-156190
公開番号(公開出願番号):特開2015-025979
特許番号:特許第5963057号
出願日: 2013年07月26日
公開日(公表日): 2015年02月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】 画像表示素子に表示される画像を被投射面に拡大投射するための投射光学系であって、 前記投射光学系は、 複数のレンズと、開口絞りとを有するレンズ光学系と、 前記複数のレンズと被投射面との間に配置したアナモフィック面を有する透過型光学素子と を具備してなり、 前記透過型光学素子は、前記画像表示素子の長手方向に対応する方向について曲率を有し、 前記被投射面の上端に向かう光線を含む光束の一部を遮光する手段を、前記レンズ光学系内の前記開口絞りの位置以外に設けることにより、 前記画像表示素子の表示画面の長辺が垂直に交わる断面において、前記レンズ光学系から射出され、前記透過型光学素子に入射する光が、 前記透過型光学素子に第1の入射角度で入射する第1の光束の光量が、 前記透過型光学素子に前記第1の入射角度より大きい第2の入射角度で入射する第2の光束の光量よりも小さい光量とすることを特徴とする投射光学系。
IPC (3件):
G02B 17/08 ( 200 6.01) ,  G03B 21/00 ( 200 6.01) ,  G03B 21/14 ( 200 6.01)
FI (5件):
G02B 17/08 A ,  G03B 21/00 F ,  G03B 21/14 D ,  G03B 21/14 F ,  G03B 21/14 Z
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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