特許
J-GLOBAL ID：201603001097127368
ナノファイバ製造装置および製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
河崎 眞一
, 津村 祐子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-103772
公開番号（公開出願番号）：特開2013-231247
特許番号：特許第5903603号
出願日： 2012年04月27日
公開日（公表日）： 2013年11月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 原料液を空間中で静電気力により延伸させて、ナノファイバを製造する装置であって、
前記原料液を供給する第一供給路および第二供給路、前記第一供給路により供給された前記原料液を放出する第一群放出部、並びに、前記第二供給路により供給された前記原料液を放出する第二群放出部を有する原料液放出ツールと、
前記第一群放出部および第二群放出部から放出される前記原料液をそれぞれ帯電させる帯電手段と、
前記第一群放出部および第二群放出部から放出された前記原料液から空間中でそれぞれ生成される前記ナノファイバを収集するコレクタと、を備え、
前記第一群放出部が、一定のピッチPTで直線状に並ぶ二以上の第一放出部を含み、
前記第二群放出部が、一定のピッチで前記第一放出部と並ぶ二以上の第二放出部を含み、
前記第一放出部および前記第二放出部の並びの方向の位置が互いに異なっており、
前記原料液放出ツールが、前記第一群放出部と前記第二群放出部との間に配設され、前記原料液の放出方向に沿った気流を発生させる、複数の気流発生部を有しており、
前記ピッチPTが、前記第一群放出部と前記第二群放出部との距離LGよりも小さく、
複数の前記気流発生部のピッチが、前記ピッチPTよりも小さい、ナノファイバ製造装置。
IPC (2件)：
D01D 5/04 ( 200 6.01)
, D04H 1/728 ( 201 2.01)
