特許
J-GLOBAL ID：201603001178424219

基板処理装置

発明者：
大橋 泰彦

大橋 泰彦 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENホールディングス

株式会社SCREENホールディングス について


代理人 (3件)： 松阪 正弘 ,  田中 勉 ,  井田 正道
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-210558
公開番号（公開出願番号）：特開2014-067778
特許番号：特許第5973299号
出願日： 2012年09月25日
公開日（公表日）： 2014年04月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を処理する基板処理装置であって、 チャンバ本体およびチャンバ蓋部を有し、前記チャンバ蓋部により前記チャンバ本体の上部開口を閉塞することにより密閉された内部空間を形成するチャンバと、 前記チャンバ蓋部を前記チャンバ本体に対して上下方向に相対的に移動するチャンバ開閉機構と、 前記チャンバ内に配置され、水平状態で基板を保持する基板保持部と、 前記上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、 前記基板上に処理液を供給する処理液供給部と、 前記チャンバ蓋部が前記チャンバ本体から離間することにより前記基板の周囲に形成される環状開口の径方向外側に全周に亘って位置し、回転する前記基板から飛散する処理液を受けるカップ部と、 前記カップ部を、前記環状開口の径方向外側の第1位置と、前記第1位置よりも下方の第2位置との間で前記上下方向に移動するカップ移動機構と、 を備え、 前記カップ部が、 前記第1位置において、前記環状開口と前記径方向に対向する略円筒状の側壁部と、 前記第1位置において、前記チャンバ蓋部との間に全周に亘って第1シールを形成する第1シール部と、 前記第1位置において、前記チャンバ本体との間に全周に亘って第2シールを形成する第2シール部と、 を備え、 前記環状開口が形成される状態の前記チャンバ蓋部および前記チャンバ本体、並びに、前記第1位置に位置する前記カップ部により密閉された空間が形成されることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/306 R ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/30 569 C
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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