特許
J-GLOBAL ID：201603001723252846
導電性高分子導電体の製造方法及び製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
藤木 博
, 吉川 まゆみ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-076094
特許番号：特許第6035662号
出願日： 2016年04月05日
要約：
【課題】容易に高い精度で導電性高分子を基材に付着させることができる導電性高分子導電体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】製造装置10は、基材Mを加熱する加熱手段11と、基材Mに、導電性高分子の単量体を含む原料溶液を塗布する原料塗布手段12と、基材Mに、単量体の重合を促進させる酸化剤、導電性高分子に導電性を発現させるためのドーパント、及び、粘性を高めるための増粘剤を含む製造用溶液を塗布する製造用溶液塗布手段13とを備えている。基材Mを加熱した後、又は、基材Mを加熱しつつ、原料溶液を塗布し、次いで、製造用溶液を塗布する。
【選択図】図1
請求項（抜粋）：
【請求項1】 導電性高分子を基材に付着した導電性高分子導電体の製造方法であって、
セリシンを塗布した繊維よりなる基材あるいは表面にセリシンを塗布した基材を加熱したのち、又は、加熱しつつ、前記基材に、前記導電性高分子の単量体を含む原料溶液を塗布する原料塗布工程と、
前記基材に、前記原料溶液を塗布した後に、前記単量体の重合を促進させる酸化剤、前記導電性高分子に導電性を発現させるためのドーパント、及び、粘性を高めるための増粘剤を含む製造用溶液を塗布する製造用溶液塗布工程と
を含むことを特徴とする導電性高分子導電体の製造方法。
IPC (4件)：
C08J 7/04 ( 200 6.01)
, B05D 1/26 ( 200 6.01)
, B41J 2/01 ( 200 6.01)
, D06M 15/15 ( 200 6.01)
C08J 7/04 CER E
, C08J 7/04 CEZ
, B05D 1/26 Z
, B41J 2/01 125
, D06M 15/15
