特許

J-GLOBAL ID：201603001918399043

中空シリカ粒子の製造方法

発明者： 酒井 秀樹 ,  阿部 正彦 ,  遠藤 健司 ,  大木 貴仁 ,  相馬 央登 ,  小倉 卓
出願人/特許権者： 学校法人東京理科大学
代理人 (1件)： 正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-166604
公開番号（公開出願番号）：特開2016-041643
出願日： 2014年08月19日
公開日（公表日）： 2016年03月31日
要約：

【課題】水性溶媒への分散性に優れる中空シリカ粒子の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る中空シリカ粒子の製造方法は、pH9.0〜11.7で、ベシクルの生成能力を備えた界面活性剤を含有する水溶液からベシクルを形成して、上記ベシクルを含有する第一水性分散液を得るベシクル形成工程と、上記第一水性分散液にシリカ前駆体を添加して、上記ベシクルと上記シリカ前駆体とを含有する第二水性分散液を得るシリカ前駆体添加工程と、上記第二水性分散液のpHを6.0〜8.5に調整するpH調整工程と、上記pH調整工程後に、上記第二水性分散液を水熱反応に付して、中空シリカ粒子を得る水熱処理工程と、を含む。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

pH9.0〜11.7で、ベシクルの生成能力を備えた界面活性剤を含有する水溶液からベシクルを形成して、前記ベシクルを含有する第一水性分散液を得るベシクル形成工程と、 前記第一水性分散液にシリカ前駆体を添加して、前記ベシクルと前記シリカ前駆体とを含有する第二水性分散液を得るシリカ前駆体添加工程と、 前記第二水性分散液のpHを6.0〜8.5に調整するpH調整工程と、 前記pH調整工程後に、前記第二水性分散液を水熱反応に付して、中空シリカ粒子を得る水熱処理工程と、 を含む中空シリカ粒子の製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/143 ,  C01B 33/18

FI (2件)：

C01B33/143 ,  C01B33/18

Fターム (28件)：

4G072AA28 ,  4G072BB07 ,  4G072BB16 ,  4G072CC11 ,  4G072DD06 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ33 ,  4G072KK01 ,  4G072KK03 ,  4G072LL06 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072MM21 ,  4G072MM22 ,  4G072MM23 ,  4G072MM31 ,  4G072PP01 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072RR19 ,  4G072SS01 ,  4G072SS02 ,  4G072SS06 ,  4G072SS11 ,  4G072SS12 ,  4G072TT01 ,  4G072UU15