研磨装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：渡邉勇 , 小杉良二 , 廣澤哲也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-240394
公開番号（公開出願番号）：特開2014-087908
特許番号：特許第5911786号
出願日： 2012年10月31日
公開日（公表日）： 2014年05月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】研磨面を有する回転自在な研磨テーブルと、アトマイザカバーで上面を覆われ、前記研磨テーブルの研磨面に向けて流体を噴霧して該研磨面を洗浄するアトマイザとを有し、前記アトマイザカバーは、半径が一定で円弧状の第1頂板と基端から先端に向けて半径が徐々に小さくなる円弧状の第2頂板とが頂部において互いに連結されている半円状の頂板と、該頂板から連続して下方に垂下する一対の側板とを有することを特徴とする研磨装置。

IPC (2件)：