特許
J-GLOBAL ID：201603002565381397

露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

発明者：
小林 直行

小林 直行 について

, 
大和 壮一

大和 壮一 について

, 
蛭川 茂

蛭川 茂 について

, 
大村 泰弘

大村 泰弘 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (2件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-021643
公開番号（公開出願番号）：特開2016-128923
出願日： 2016年02月08日
公開日（公表日）： 2016年07月14日
要約：
【課題】液体を介した露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、液体LQを介して基板P上に露光光ELを照射して、基板Pを露光するものであって、基板Pを保持する基板ホルダPHを有し、この基板ホルダPHに基板Pを保持して移動可能な基板ステージPSTと、基板ホルダPHの温度調整を行う温調システム60とを備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
液体を介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、 前記基板を保持する基板保持部材を有し、該基板保持部材に前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、 前記基板保持部材の温度調整を行う温調システムとを備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (6件)：
G03F 7/20 ,  G02B 21/30 ,  G02B 21/26 ,  G01B 11/00 ,  G01K 1/14 ,  H01L 21/683
FI (8件)：
G03F7/20 501 ,  G03F7/20 521 ,  G02B21/30 ,  G02B21/26 ,  G01B11/00 B ,  G01B11/00 C ,  G01K1/14 Z ,  H01L21/68 N
Fターム (86件)：
2F065AA02 ,  2F065AA06 ,  2F065AA07 ,  2F065BB27 ,  2F065CC17 ,  2F065FF01 ,  2F065FF10 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  2H052AD24 ,  2H052AD27 ,  2H052AF03 ,  2H197AA06 ,  2H197AA07 ,  2H197AA08 ,  2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197BA04 ,  2H197BA09 ,  2H197BA10 ,  2H197BA11 ,  2H197BA21 ,  2H197CA03 ,  2H197CA05 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CB16 ,  2H197CC01 ,  2H197CC16 ,  2H197CD02 ,  2H197CD11 ,  2H197CD12 ,  2H197CD13 ,  2H197CD15 ,  2H197CD16 ,  2H197CD17 ,  2H197CD18 ,  2H197CD41 ,  2H197CD43 ,  2H197CD48 ,  2H197DB17 ,  2H197DB18 ,  2H197DB19 ,  2H197DB26 ,  2H197DB27 ,  2H197DC02 ,  2H197DC03 ,  2H197DC14 ,  2H197EA03 ,  2H197EA04 ,  2H197EA11 ,  2H197EA13 ,  2H197EB16 ,  2H197EB23 ,  2H197HA03 ,  2H197HA04 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10 ,  2H197JA02 ,  5F131AA02 ,  5F131BA13 ,  5F131CA03 ,  5F131DA09 ,  5F131EA02 ,  5F131EA14 ,  5F131EA22 ,  5F131EA23 ,  5F131EA24 ,  5F131EB53 ,  5F131EB78 ,  5F131EB81 ,  5F131EB82 ,  5F131EB89 ,  5F131FA10 ,  5F131FA17 ,  5F131FA37 ,  5F131KA03 ,  5F131KA12 ,  5F131KA23 ,  5F131KA44 ,  5F131KA47 ,  5F131KA54 ,  5F131KB07 ,  5F131KB12 ,  5F131KB53 ,  5F131KB56
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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