特許
J-GLOBAL ID：201603003279097963

原子層堆積のための装置及びプロセス

発明者：
ユドフスキー, ジョゼフ

ユドフスキー, ジョゼフ について


出願人/特許権者：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-556854
特許番号：特許第5989682号
出願日： 2012年03月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】原子層堆積チャンバと、 前記原子層堆積チャンバ内にある複数のガス分配プレートであって、前記ガス分配プレートはそれぞれ、ガスの流れを基板の表面に向ける複数の細長いガスポートと、ガスを吸い出す複数の真空ポートと、を有する、複数のガス分配プレートと、 原子層堆積チャンバ内にある複数のコンベヤシステムであって、複数のコンベヤシステムのそれぞれは、前記複数のガス分配プレートの1つに関連しており、当該関連するガス分配プレートの下方の堆積経路に沿って基板を移動させる、複数のコンベヤシステムと、 1つのガス分配プレートの後端から別のガス分配プレートの前端まで基板を移動させる、前記原子層堆積チャンバ内にあるステージと、を備える、 前記コンベヤシステムが基板を移動させる方向と、前記ステージが基板を移動させる方向と、は直交している、堆積システム。
IPC (3件)：
C23C 16/44 ( 200 6.01) ,  C23C 16/455 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C23C 16/44 F ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/31 B
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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