特許
J-GLOBAL ID：201603003928624021

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
釜淵 明

釜淵 明 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-139285
公開番号（公開出願番号）：特開2013-041242
特許番号：特許第5996944号
出願日： 2012年06月21日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される構造単位を有する樹脂、 式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、及び 酸発生剤を含有するレジスト組成物。 [式(I)中、 R1は、水素原子又はメチル基を表す。 A1は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。 A13は、ハロゲン原子を有する2価の炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表す。 X12は、*-CO-O-又は*-O-CO-を表し、*は、A13との結合手を表す。 A14は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。] [式(II)中、 R3は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。 環X1は、炭素数2〜36の複素環を表し、該複素環に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜24の炭化水素基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜4のアシル基又は炭素数2〜4のアシルオキシ基で置換されていてもよい。]
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  C08F 20/00 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  C08F 20/00 510
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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