光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-045668
公開番号（公開出願番号）：特開2016-147879
出願日： 2016年03月09日
公開日（公表日）： 2016年08月18日
要約：

【課題】サブミクロン寸法の高解像の像を提供できる新規のフォトレジスト使用する光酸発生剤化合物の提供。【解決手段】下式の1)SO3-部分;2)1個以上のフッ素化炭素;および3)エステルケト基によって直接的にまたは非直接的に置換されている1個以上のフッ素化炭素を含む化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記:

IPC (9件)：

C07D 307/93 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , C09K 3/00 , C07C 381/12 , C07D 327/04 , C07D 493/18 , C07D 497/18 , G03F 7/20

FI (9件)：

C07D307/93 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C09K3/00 K , C07C381/12 , C07D327/04 , C07D493/18 , C07D497/18 , G03F7/20 501

Fターム (34件)：

2H125AF17P , 2H125AF38P , 2H125AH17 , 2H125AH22 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AN57P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H197CA06 , 2H197CA10 , 2H197CE01 , 2H197CE10 , 2H197HA04 , 2H197HA05 , 2H225AF53P , 2H225AF67P , 4C023AA01 , 4C037UA05 , 4C071AA03 , 4C071BB02 , 4C071CC12 , 4C071EE05 , 4C071EE22 , 4C071FF15 , 4C071HH08 , 4C071HH09 , 4C071LL10 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB78

引用特許：

審査官引用 (9件)

新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-064131 出願人：東京応化工業株式会社
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-141027 出願人：富士フイルム株式会社
新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-067366 出願人：信越化学工業株式会社

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