特許
J-GLOBAL ID：200903094325277254

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者：
原田 由香子

原田 由香子 について

, 
武元 一樹

武元 一樹 について

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戸石 好治

戸石 好治 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-093734
公開番号（公開出願番号）：特開2006-306856
出願日： 2006年03月30日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：
【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。(式中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、環Yは炭素数3〜30の単環式または多環式炭化水素基を表し、環構造中にエステル結合を有する。nは0〜12の整数を表し、A+は有機対イオンを表す。式中の環Yは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基又はシアノ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で示されることを特徴とする塩。
IPC (8件)：
C07D 307/00 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12 ,  C08L 101/00 ,  C08K 5/42 ,  C07C 309/17
FI (9件)：
C07D307/00 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12 ,  C08L101/00 ,  C08K5/42 ,  C07C309/17
Fターム (24件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  4C037AA02 ,  4C037UA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB48 ,  4H006AB92 ,  4J002BC121 ,  4J002BG011 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002EV256 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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