特許
J-GLOBAL ID：201603004904392770

水素ガス製造方法および水素ガス製造装置

発明者：
下司 辰郎

下司 辰郎 について

, 
池内 正彦

池内 正彦 について


出願人/特許権者：
株式会社TKX

株式会社TKX について


代理人 (5件)： 楠本 高義 ,  中越 貴宣 ,  三雲 悟志 ,  森 優 ,  浅野 哲平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-234272
公開番号（公開出願番号）：特開2015-093808
特許番号：特許第5916686号
出願日： 2013年11月12日
公開日（公表日）： 2015年05月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 シリコン粒子と、クーラントから由来する油分であって、前記シリコン粒子の0.1重量%〜10重量%の前記油分と、水と、を含む水素ガス製造用シリコン原料Aを準備する工程、 アルカリ水溶液を準備する工程、 前記水素ガス製造用シリコン原料Aと前記アルカリ水溶液を反応槽内に供給する工程、 前記水素ガス製造用シリコン原料Aを、注入速度を前記反応槽内の前記水素ガス製造用シリコン原料Aと前記アルカリ水溶液との混合液の温度および前記温度の時間変化率に基づいてフィードバック制御しながら、前記反応槽に注入する工程、 前記アルカリ水溶液を、注入速度を前記混合液のアルカリ濃度を測定すると共に、前記アルカリ濃度の時間変化率を計算してフィードバック制御しながら、前記反応槽に注入する工程、 前記反応槽内の、前記混合液を、所定温度に維持する工程、 前記反応槽から取り出された、水素ガス、水蒸気、アルカリ水溶液ミスト、メタケイ酸塩水和物ミスト、シリコン粒子を含む気体Pを、スクラバで処理して、前記気体Pから前記アルカリ水溶液ミスト、前記メタケイ酸塩水和物ミスト、前記シリコン粒子を除去する工程、 前記スクラバで処理した、前記水素ガスおよび前記水蒸気を含む気体Qを凝縮器で処理して、前記気体Qから前記水蒸気を除去する工程を含む水素ガス製造方法。
IPC (2件)：
C01B 3/06 ( 200 6.01) ,  C01B 3/56 ( 200 6.01)
FI (2件)：
C01B 3/06 ,  C01B 3/56 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM