水素製造装置および水素製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-370812
公開番号（公開出願番号）：特開2000-191303
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【課題】半導体装置製造工程において多量に発生するシリコン屑を利用して、純度の高い水素を低コストで製造できる装置を提供する。【解決手段】半導体装置製造ラインに並設される水素製造装置。アルカリ液とシリコンとの混合により水素発生反応を行うための反応槽と、該反応槽へ前記ラインから発生するシリコン屑を集めて原材料として供給するシリコン供給手段と、反応槽へアルカリ液を供給するアルカリ液供給手段と、反応槽の内圧を調整する圧力調整手段と、アルカリ液を所定温度に調整する温度調整手段と、反応槽内で発生した水素ガスを槽外へ回収する水素回収手段と、を備えた。

請求項（抜粋）：

半導体装置製造ラインに並設され、アルカリ液とシリコンとの混合により水素発生反応を行うための反応槽と、該反応槽へ前記ラインから発生するシリコン屑を集めて原材料として供給するシリコン供給手段と、反応槽へアルカリ液を供給するアルカリ液供給手段と、反応槽の内圧を調整する圧力調整手段と、アルカリ液を所定温度に調整する温度調整手段と、反応槽内で発生した水素ガスを槽外へ回収する水素回収手段と、を備えたことを特徴とする水素製造装置。

IPC (2件)：

C01B 3/06 , B09B 3/00

FI (2件)：

C01B 3/06 , B09B 3/00 304 P

Fターム (15件)：

4D004AA16 , 4D004AC05 , 4D004BA03 , 4D004BA10 , 4D004CA36 , 4D004CA37 , 4D004CB02 , 4D004CB05 , 4D004CB13 , 4D004CB31 , 4D004CB36 , 4D004CB41 , 4D004CC12 , 4D004DA02 , 4D004DA20

引用特許：

出願人引用 (9件)

特公昭49-004637
特開平4-059601
特公昭49-020878

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審査官引用 (12件)

特公昭49-004637
特公昭49-020878
金属シリコンの再利用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-313289 出願人：川崎製鉄株式会社

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