特許
J-GLOBAL ID:201603005842891259

ウエハ支持構造体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人アイテック国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-520171
特許番号:特許第6010720号
出願日: 2016年01月13日
要約:
【要約】 ウエハ支持構造体10は、ウエハWを載置するウエハ載置部14を複数備えたセラミック製のトレイプレート12がセラミック製のベースプレート20の上面に配置されたものである。ベースプレート20は、ベース側電極22を内蔵し、トレイプレート12は、トレイ側電極18を内蔵している。このウエハ支持構造体10では、ウエハ載置部14にウエハWを載置した状態でベース側電極22及びトレイ側電極18に印加する電圧を調整する。こうすることにより、ベースプレート20とトレイプレート12とを互いに引き寄せる静電気的な力を発生させると共にトレイプレート12とウエハWとを互いに引き寄せる静電気的な力を発生させる。
請求項(抜粋):
【請求項1】 ウエハを載置するウエハ載置部を複数備えたセラミック製のトレイプレートがセラミック製のベースプレートの上面に配置されたウエハ支持構造体であって、 前記ベースプレートは、ベース側電極を内蔵し、 前記トレイプレートは、トレイ側電極を内蔵し、 前記ウエハ載置部に前記ウエハを載置した状態で前記ベース側電極及び前記トレイ側電極に印加する電圧を調整することにより、前記ベースプレートと前記トレイプレートとを互いに引き寄せる静電気的な力を発生させると共に前記トレイプレートと前記ウエハとを互いに引き寄せる静電気的な力を発生させる、 ウエハ支持構造体。
IPC (1件):
H01L 21/683 ( 200 6.01)
FI (1件):
H01L 21/68 R
引用特許:
出願人引用 (2件)

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