ゼオライト材料の後処理

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：江藤聡明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-537192
公開番号（公開出願番号）：特表2015-536291
出願日： 2013年10月09日
公開日（公表日）： 2015年12月21日
要約：

(i)ゼオライト材料の骨格構造がYO2及びX2O3を含み、Yが4価元素であり、Xが3価元素である、ゼオライト材料を準備する工程と、(ii)(i)において準備したゼオライト材料を、(a)ゼオライト材料を最大限でも5のpHを有する水溶液により処理する工程と、(b)(a)から得られたゼオライト材料を5.5〜8の範囲のpH及び少なくとも75°Cの温度を有する液体水性系により処理する工程とを含む方法にかける工程とを含み、(ii)において(b)の後に、ゼオライト材料を(a)による少なくとも1回のさらなる処理及び/又は(b)による少なくとも1回のさらなる処理に場合によってかける、ゼオライト材料の後処理の方法。

請求項（抜粋）：

ゼオライト材料の後処理の方法であって、 (i)ゼオライト材料の骨格構造がYO2及びX2O3を含み、Yが4価元素であり、Xが3価元素である、ゼオライト材料を準備する工程と、 (ii)(i)において準備したゼオライト材料を、 (a)最大限でも5のpHを有する水溶液により処理する工程と、 (b)(a)から得られたゼオライト材料を5.5〜8の範囲のpH及び少なくとも75°Cの温度を有する液体水性系により処理する工程とを含む方法で処理する工程とを含み、 (ii)において(b)の後に、ゼオライト材料に対し、(a)による少なくとも1回のさらなる処理及び/又は(b)による少なくとも1回のさらなる処理を任意に施し、 (a)における水溶液のpH及び(b)における液体水性系のpHをpH感受性ガラス電極を用いて測定する、方法。

IPC (1件)：

C01B 39/46

FI (1件)：

C01B39/46

Fターム (20件)：

4G073BA20 , 4G073BA21 , 4G073BA36 , 4G073BA56 , 4G073BA58 , 4G073BA59 , 4G073BA64 , 4G073BA65 , 4G073CZ17 , 4G073CZ25 , 4G073CZ49 , 4G073CZ50 , 4G073DZ09 , 4G073FD24 , 4G073FE01 , 4G073FE03 , 4G073FE05 , 4G073GA01 , 4G073GB07 , 4G073UA01

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平3-131513
特開平3-164423
特開平3-197313

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審査官引用 (5件)

特開平3-131513
特開平3-164423
特開平3-197313

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