半導体基板パッシベーション膜形成用組成物、パッシベーション膜付半導体基板及びその製造方法、並びに太陽電池素子

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人太陽国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-218466
公開番号（公開出願番号）：特開2014-072449
特許番号：特許第6011215号
出願日： 2012年09月28日
公開日（公表日）： 2014年04月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(I)で表される有機アルミニウム化合物と、フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤から選択される少なくとも1種と、を含む半導体基板パッシベーション膜形成用組成物。

IPC (1件)：