特許
J-GLOBAL ID:201603006844278011

供給原料をガス化するための方法およびデバイス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 池田 成人 ,  酒巻 順一郎 ,  野田 雅一 ,  山口 和弘
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-555136
公開番号(公開出願番号):特表2016-508526
出願日: 2013年01月29日
公開日(公表日): 2016年03月22日
要約:
複数の垂直方向に配置された管を利用して熱分解区域、熱分解区域の下の酸化区域、および酸化区域の下の還元区域を形成する下方流ガス化装置およびガス化方法。この管の形状によって、最大の到達可能な処理能力を制限する制限部(炉床)の必要性がなくなる。回転式の垂直方向に調節可能な火格子が、ガス化装置の還元区域の下に配置されるが、そこに装着されない。【選択図】図1
請求項(抜粋):
結合され垂直方向に配置された複数の管であって、内壁、外壁、入口を提供する近位端、および出口を提供する遠位端を有する複数の管と、 少なくとも3つの連続する反応区域であって、中心の収束部に向かって角度を成す熱分解区域と、その後に続く酸化区域であり、前記酸化区域に相当する前記管の中央の部分が広げられた酸化区域と、その後に続く還元区域であり、前記還元区域に相当する管の内壁が、前記酸化区域に相当する管より大きな直径を有する還元区域とを含む、少なくとも3つの連続する反応区域と、 空気を噴射するために前記酸化区域内に配置された平面空気入口の少なくとも2つのリングと、 前記還元区域の下に配置されているが前記還元区域に接触はしていない、回転式で垂直方向に調節可能な火格子と を備え、 供給原料のガス化のために使用される部分開放コア型の下方流ガス化装置である、ガス化装置。
IPC (2件):
C10J 3/20 ,  C10J 3/02
FI (2件):
C10J3/20 ,  C10J3/02 L
引用特許:
審査官引用 (3件)

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