特許
J-GLOBAL ID:201603006985970415
偏光性積層フィルム及び偏光板の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-175473
公開番号(公開出願番号):特開2016-071349
出願日: 2015年09月07日
公開日(公表日): 2016年05月09日
要約:
【課題】薄肉であり、かつ強度に優れる偏光性積層フィルムを製造する方法を提供する。【解決手段】基材フィルム上に偏光フィルム層を有する偏光性積層フィルムの製造方法であって、基材フィルム上にポリビニルアルコール系樹脂層を形成する工程、前記樹脂層を形成する工程で得られる積層体を延伸する工程、及び前記延伸する工程の後に、前記ポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色して偏光フィルム層を形成する工程を備え、前記偏光フィルム層を形成する工程は、前記ポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色した後に、乾燥温度(°C)及び乾燥時間(分)の積で表される温度パラメータが220〜350である乾燥処理を含む。【選択図】なし
請求項(抜粋):
基材フィルム上に偏光フィルム層を有する偏光性積層フィルムの製造方法であって、
前記製造方法は、
基材フィルム上にポリビニルアルコール系樹脂層を形成する工程、
前記樹脂層を形成する工程で得られる積層体を延伸する工程、及び
前記延伸する工程の後に、前記ポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色して偏光フィルム層を形成する工程を備え
前記偏光フィルム層を形成する工程は、前記ポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色した後に、乾燥温度(°C)及び乾燥時間(分)の積で表される温度パラメータが220〜350である乾燥処理を含むことを特徴とする偏光性積層フィルムの製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (14件):
2H149AA02
, 2H149AB15
, 2H149AB23
, 2H149BA02
, 2H149BB05
, 2H149BB07
, 2H149BB12
, 2H149BB24
, 2H149CA02
, 2H149EA12
, 2H149EA22
, 2H149FA03W
, 2H149FA05Y
, 2H149FA68
引用特許:
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