特許
J-GLOBAL ID：201603008233074499
多孔性高分子フィルムの製造方法および多孔性高分子フィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鎌田 耕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-194358
公開番号（公開出願番号）：特開2016-065140
出願日： 2014年09月24日
公開日（公表日）： 2016年04月28日
要約：
【課題】イオンビーム照射およびその後の化学エッチングを利用した多孔性高分子フィルムの製造方法であって、形成する細孔の形状、典型的には断面形状、の制御の自由度が高い方法を提供する。【解決手段】イオンビームを高分子フィルムに照射する工程(I)と、ビーム照射後の高分子フィルムにおけるイオンが衝突した部分の少なくとも一部を化学エッチングして、イオンの衝突の軌跡に沿って延びる貫通孔および/または非貫通孔を当該フィルムに形成する工程(II)とを含み、工程(II)において、高分子フィルムの一方の主面へのマスキング層の配置により、当該一方の主面からの上記部分のエッチングに比べて、他方の主面からの上記部分のエッチングの程度が大きい化学エッチングを実施する方法とする。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
イオンビームを高分子フィルムに照射する工程(I)と、
前記イオンビーム照射後の高分子フィルムにおけるイオンが衝突した部分の少なくとも一部を化学エッチングして、前記イオンの衝突の軌跡に沿って延びる貫通孔および/または非貫通孔を当該フィルムに形成する工程(II)と、を含み、
前記工程(II)において、
前記高分子フィルムの一方の主面へのマスキング層の配置により、当該一方の主面からの前記部分のエッチングに比べて、前記高分子フィルムの他方の主面からの前記部分のエッチングの程度が大きい化学エッチングを実施する、
多孔性高分子フィルムの製造方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
4F074AA67
, 4F074CA10
, 4F074CB04
, 4F074CB17
, 4F074CB91
, 4F074DA03
, 4F074DA13
, 4F074DA14
