特許
J-GLOBAL ID：201603009008669781
石英ガラス適用のための高純度シリカ顆粒並びにその製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 久野 琢也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-554843
特許番号：特許第5897043号
出願日： 2012年02月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 0.01〜10.0ppmのアルカリ金属含有量、0.01〜10.0ppmのアルカリ土類金属含有量、0.001〜1.0ppmのホウ素含有量、0.001〜1.0ppmのリン含有量、0.01〜1.5ml/gの窒素細孔容積及び5〜200nmの最大細孔寸法を有し、かつ、0.01〜40.0ppmの炭素含有量を有することを特徴とする、高純度シリカ顆粒。
IPC (4件)：
C01B 33/18 ( 200 6.01)
, C03B 20/00 ( 200 6.01)
, C03B 8/02 ( 200 6.01)
, C03C 3/06 ( 200 6.01)
C01B 33/18 Z
, C03B 20/00 D
, C03B 20/00 F
, C03B 8/02 B
, C03B 8/02 G
, C03B 8/02 L
, C03C 3/06
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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