特許
J-GLOBAL ID：201603009484136546
気相成長装置
出願人/特許権者：
大陽日酸株式会社
, 大陽日酸株式会社 について
大陽日酸CSE株式会社
大陽日酸CSE株式会社 について
代理人 (1件)： 石川 壽彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-221858
公開番号（公開出願番号）：特開2014-075468
特許番号：特許第6013121号
出願日： 2012年10月04日
公開日（公表日）： 2014年04月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 チャンバー本体とチャンバー蓋で構成されたチャンバー内に設置された基板上に原料ガスを供給して前記基板上に薄膜を成長させる気相成長装置であって、
前記チャンバー本体側に設置されて前記基板を保持するサセプタと、
該サセプタとの間に所定の間隔を離して対向配置されて前記原料ガスの流路を形成する天井板と、
前記チャンバー本体の中央部に設置されて、前記原料ガスを前記原料ガスの流路に供給するノズル装置とを備えてなり、
前記ノズル装置は、その上端部に、前記天井板の中央部が載置される載置部を有し、前記天井板は、その中央部が前記載置部に載置されることで前記ノズル装置に保持され、かつ前記ノズル装置は、径方向に所定間隔を離して複数配置されて原料ガスのガス導入路を形成するノズル壁部材を有し、最も内側のノズル壁部材が上下動可能な可動ノズル壁部材になっており、前記載置部は該可動ノズル壁部材の上端部に形成されていることを特徴とする気相成長装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
Copyright (c) 2009 Japan Science and Technology Agency. All Rights Reserved