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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人北青山インターナショナル
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-015596
公開番号（公開出願番号）：特開2016-129141
出願日： 2016年01月29日
公開日（公表日）： 2016年07月14日
要約：

【課題】電磁エネルギを受けるように構成される空洞の中で、電磁場の分布は、対象物の特性(例えば対象物の大きさ)、位置、および向き、ならびにエネルギを加える供給源の特徴に依存することがあるので、電磁エネルギを制御可能な方法で加える必要がある。【解決手段】少なくとも1つの放射素子18により、エネルギ印加区域内の対象物に電磁エネルギを加えるための装置および方法を開示する。エネルギ印加区域内の第1の領域および第2の領域の位置を決定するように、少なくとも1個のプロセッサ30を構成することができる。さらに、そのプロセッサ30は、第1の所定量のRFエネルギをエネルギ印加区域内の第1の領域に加え、第2の所定量のRFエネルギをエネルギ印加区域内の第2の領域に加えるために、供給源を調整するように構成することができる。第1の所定量のエネルギは、第2の所定量のエネルギと異なってもよい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の放射素子を介して空洞内の対象物に1MHzから100GHzの周波数範囲内の複数の周波数で電磁エネルギを加えるための装置であって、エネルギ印加区域内の第1の領域および第2の領域に、第1および第2の量のRFエネルギがそれぞれ第1および第2の領域に加えられるよう関連付け、ここで前記第1の量のエネルギは前記第2の量のエネルギと異なっており、複数の組の値を選択することであって、各組が前記エネルギ印加領域内に1のフィールドパターンを及ぼす少なくとも1のパラメータの値を含み、前記組のうちの2つは周波数の値および位相の値のうちの1以上において互いに異なっており、前記複数の組は前記第1および第2の領域にエネルギを印加する目的をもって選択され、前記選択された複数の組の値で前記エネルギ印加領域に電磁エネルギをかけることにより、前記第1の量のRFエネルギを前記エネルギ印加領域の第1の領域に印加し、前記第2の量のRFエネルギを前記エネルギ印加領域の第2の領域に印加するために、供給源を調整する、ように構成される少なくとも1個のプロセッサを含むことを特徴とする装置。

IPC (3件)：

H05B 6/64 , H05B 6/70 , H05B 6/68

FI (3件)：

H05B6/64 Z , H05B6/70 F , H05B6/68 310Z

引用特許：

審査官引用 (6件)

特公平3-049195
局所加温装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-043452 出願人：学校法人明治大学
円筒状マイクロ波アプリケータ
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-501101 出願人：ザラブブライトグループ,インク.

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