特許
J-GLOBAL ID：201603009727574717

X線光学装置の調整方法

発明者：
正木 文太郎

正木 文太郎 について

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飯塚 直哉

飯塚 直哉 について

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雨宮 光陽

雨宮 光陽 について

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三宅 明

三宅 明 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 渡辺 敬介 ,  山口 芳広
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-055716
公開番号（公開出願番号）：特開2013-190268
特許番号：特許第6016389号
出願日： 2012年03月13日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 X線源と、隣接する一対により規定される間隙をX線通路とするように、間隔を空けて配置された複数のX線反射基板を有するX線平行化光学素子と、を備えるX線光学装置の調整方法であって、 前記X線平行化光学素子に前記X線源からのX線が入射するときの視射角が臨界角を超えるとともに、前記X線平行化光学素子を通過したX線の強度が前記X線源の位置に対して極大をとる領域を挟む2つの領域の少なくとも一方において、前記X線源を配置し、前記X線通路から出射されたX線の強度を検出する工程と、 前記2つの領域の少なくとも他方において前記X線平行化光学素子に対する相対位置を変化させるとともに、前記X線源の強度を検出し前記一方の領域と前記他方の領域のそれぞれにおける前記X線の強度が等しくなるときの前記X線源の位置y1、y2を同定する工程と、 前記同定したy1とy2の加法平均で求められる強度平均位置に前記X線源を移動させる工程と、を有することを特徴とするX線光学装置の調整方法。
IPC (3件)：
G21K 1/06 ( 200 6.01) ,  G21K 1/00 ( 200 6.01) ,  G01N 23/04 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G21K 1/06 M ,  G21K 1/06 B ,  G21K 1/00 X ,  G01N 23/04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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