特許

J-GLOBAL ID：201603009938430088

水素水、その製造方法及び製造装置

発明者： 小林 光 ,  小林 悠輝
出願人/特許権者： 株式会社KIT
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-237328
公開番号（公開出願番号）：特開2016-155118
出願日： 2015年12月04日
公開日（公表日）： 2016年09月01日
要約：

【課題】シリコン微細ナノ粒子及び/又はその一部が凝集体となったものを含むものを水又は水溶液中に接触または分散して水素を発生させ、低コストで安全に、オンサイトで所定の水素濃度を有する水素水を得ることは重要である。【解決手段】シリコン微細粒子又はシリコン微細粒子をビーズミル機で粉砕したシリコン微細ナノ粒子及び/又はその一部が凝集体となったものを含むものを密封容器内で水又は水溶液に接触及び/又は該水又は該水溶液中に分散させることにより水素を発生させて、水溶液中に所定の制御された水素濃度を有する水素水を得る。この水素水の製造には、シリコン微細粒子を出発材料として、実用に耐え得る濃度と量の溶存水素を含む水素水を、安全に効率よく製造することが可能である。従って、シリコン微細粒子の有効活用にもなり、環境保護に貢献するとともに、特に健康・医療分野での有効な水素水の製造コストの大幅削減にも寄与する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

シリコン微細粒子又はシリコン微細粒子を更に粉砕したシリコン微細ナノ粒子及び/又はその一部が凝集体となったものを含むものを水又は水溶液に接触及び/又は分散させて水素を発生させ、かつその水素を直接的に前記水中に溶存させて容器に密封したことを特徴とする水素水。

IPC (3件)：

C02F 1/68 ,  A23L 2/52 ,  C01B 3/04

FI (7件)：

C02F1/68 520B ,  C02F1/68 510A ,  C02F1/68 510B ,  C02F1/68 530B ,  C02F1/68 530A ,  A23L2/00 F ,  C01B3/04 R

Fターム (19件)：

4B017LC03 ,  4B017LK01 ,  4C083AB051 ,  4C083AB501 ,  4C083CC23 ,  4C083CC25 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083FF01 ,  4C086AA10 ,  4C086HA01 ,  4C086HA30 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086MA17 ,  4C086MA52 ,  4C086NA20 ,  4C086ZB22 ,  4C086ZC21