特許
J-GLOBAL ID：201603009954516154

蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び有機EL表示装置の製造方法

発明者：
工藤 修二

工藤 修二 について

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水村 通伸

水村 通伸 について

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梶山 康一

梶山 康一 について

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木村 江梨子

木村 江梨子 について


出願人/特許権者：
株式会社ブイ・テクノロジー

株式会社ブイ・テクノロジー について


代理人 (5件)： 小川 護晃 ,  西山 春之 ,  奥山 尚一 ,  荒木 邦夫 ,  梶 大樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-080707
公開番号（公開出願番号）：特開2013-209710
特許番号：特許第5958804号
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上に複数の薄膜パターンを一定の配列ピッチで並べて蒸着形成するための蒸着マスクであって、 前記薄膜パターンの配列ピッチと同じ配列ピッチで並べて該薄膜パターンと同じ寸法形状の貫通する複数の開口パターンを形成した可視光を透過する樹脂製フィルムと、 前記フィルムの一面に密接され、前記開口パターンに対応して該開口パターンよりも寸法形状の大きい貫通開口を設けた磁性金属部材からなり、蒸着時に前記基板上に密接される保持部材と、 を備えて構成され、 前記開口パターンは、前記フィルムの前記一面側の開口面積が前記薄膜パターンの面積と同じで、前記一面とは反対側の他面側の開口面積が前記一面側の開口面積よりも大きいことを特徴とする蒸着マスク。
IPC (7件)：
C23C 14/04 ( 200 6.01) ,  C23C 14/24 ( 200 6.01) ,  H05B 33/10 ( 200 6.01) ,  H01L 51/50 ( 200 6.01) ,  H05B 33/08 ( 200 6.01) ,  H05B 33/12 ( 200 6.01) ,  H05B 33/02 ( 200 6.01)
FI (7件)：
C23C 14/04 A ,  C23C 14/24 G ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/08 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/02
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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