特許
J-GLOBAL ID：201603010703997984
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-085101
公開番号（公開出願番号）：特開2012-226345
特許番号：特許第5973210号
出願日： 2012年04月04日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、
(A2)式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び
(B)酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、
R3は、水素原子又はメチル基を表す。
A1は、-(CH2)m1-、-(CH2)m2-O-(CH2)m3-又は-(CH2)m4-CO-O-(CH2)m5-を表す。
m1〜m5は、それぞれ独立に、1〜6の整数を表す。
R2は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
[式(II)中、
環T1は、置換基を有していてもよい炭素数3〜34のスルトン環を表す。
Z1は、-N(Rc)-(CH2)ul-*、-N(Rc)-(CH2)ul-O-*、-N(Rc)-(CH2)ul-O-(CH2)u2-*又は-N(Rc)-(CH2)ul-COO-(CH2)u2-*である。*は、T1-O-CO-との結合手を表す。
Rcは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
u1及びu2は、それぞれ独立に、1〜6の整数を表す。
R1は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。]
IPC (5件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08F 20/26 ( 200 6.01)
, C08F 20/38 ( 200 6.01)
, C08F 20/58 ( 200 6.01)
G03F 7/004 501
, G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, C08F 20/26
, C08F 20/38
, C08F 20/58
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (5件)
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