特許
J-GLOBAL ID:201603011051916010
原子層堆積により形成された極薄の分離層を備えるペーシングリード線
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
恩田 誠
, 恩田 博宣
, 本田 淳
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-503223
特許番号:特許第5855789号
出願日: 2013年03月01日
請求項(抜粋):
【請求項1】 埋め込み型の医療リード線であって、
基材を含み、
前記基材は、表面と、
前記基材の表面に配置されたナノラミネートであって、前記ナノラミネートは、少なくとも一つのセラミック層と、少なくとも一つのポリマー層を含み、前記セラミック層の厚さは30ナノメーター(3.0×10-8m)以下である前記ナノラミネートとを含むことを特徴とする埋め込み型の医療リード線。
IPC (2件):
A61L 31/00 ( 200 6.01)
, A61N 1/05 ( 200 6.01)
FI (2件):
引用特許: