特許
J-GLOBAL ID：201603011326278346

微分干渉計モジュールを備えたリソグラフィシステム

発明者：
デ・ボエル、ギュイド

デ・ボエル、ギュイド について

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オームズ、トーマス・エイドリアーン

オームズ、トーマス・エイドリアーン について

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ベルゲール、ニールス

ベルゲール、ニールス について

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コーベリールス、ゴデフリドゥス・コーネリウス・アントニウス

コーベリールス、ゴデフリドゥス・コーネリウス・アントニウス について


出願人/特許権者：
マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.

マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. について


代理人 (6件)： 蔵田 昌俊 ,  福原 淑弘 ,  中村 誠 ,  野河 信久 ,  峰 隆司 ,  砂川 克
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-502500
特許番号：特許第5985605号
出願日： 2012年03月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 リソグラフィシステムの第1の鏡と第2の鏡との間の相対的な変位を測定する方法であって、 前記第2の鏡は、前記リソグラフィシステムの露光ツールに接続されており、前記第1の鏡は、前記リソグラフィシステムによって露光されるターゲットに接続されており、 前記第1の鏡は、前記第2の鏡に対して移動可能であり、 この方法は、微分干渉計モジュールを使用することにより実行され、次の工程、 a)3つのコヒーレントビームを発生させる工程と、 b)前記3つのコヒーレントビームを、ユニタリビームスプリッタを使用して、3つの測定ビーム及び関連する基準ビームの対に分割する工程とを具備し、 前記発生させる工程は、前記分割する工程の前に行われ、 この方法は、さらに、 c)前記分割する工程の後に、前記3つの測定ビームが非同一平面上にあるように、前記3つの測定ビームを、前記3つの測定ビームを反射させる前記第1の鏡に入射するように向ける工程、及び、前記3つの基準ビームが非同一平面上にあるように、前記3つの基準ビームを、前記3つの基準ビームを反射させる前記第2の鏡に入射するように向ける工程と、ここで、前記第1の鏡及び前記第2の鏡にそれぞれ入射する前記3つの測定ビームと前記3つの基準ビームは、すべてが互いに平行であり、 d)3つの結合ビームを与えるために、前記3つの反射された測定ビームをこれらの3つの関連する反射された基準ビームと結合させる工程と、ここで、各結合されるビームは、1つの反射された測定ビームと1つの反射された基準ビームとの結合であり、 e)前記3つの結合ビームの各々の1つを、各々が結合されたビームを前記第2の鏡に対する前記第1の鏡の位置と向きとの少なくとも一方を表す信号に変換するように構成された対応するビーム受光器に投影する工程と、を具備する方法であって、 前記微分干渉計モジュールは、前記3つのコヒーレントビーム(b1,b2,b3)を発生させるように構成されたビーム源(32,33,34)と、 前記3つのコヒーレントビームを測定ビーム(mb1,mb2,mb3)と関連する基準ビーム(rb1,rb2,rb3)の各対に分割するように構成されたユニタリビームスプリッタ(42)と、 前記3つの反射された測定ビームと関連する3つの反射された基準ビームとを結合し、対応する3つの結合ビーム(cb1,cb2,cb3)と、前記3つの結合ビームのそれぞれを受光する3つのビーム受光器(51,52,53)とを備える、方法。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G01B 9/02 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G03F 7/20 521 ,  G01B 9/02
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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